Orthosilicate de tétraéthyle
L'orthosilicate de tétraéthyle (TEOS) est un composé chimique de formule Si(OCH2CH3)4 ou plus simplement Si(OEt)4; l'abréviation TEOS (pour tetraethylorthosilicate) est généralement utilisée dans l'industrie du sol-gel, où il est intensivement étudié. La majorité des études en sol-gel pour des sols de silices ont utilisé ce produit comme précurseur.
Orthosilicate de tétraéthyle | |||
Structure de l'orthosilicate de tétraéthyle. |
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Identification | |||
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No CAS | |||
No ECHA | 100.000.986 | ||
No CE | 201-083-8 | ||
Apparence | liquide incolore, d'odeur caractéristique[1] | ||
Propriétés chimiques | |||
Formule | C8H20O4Si [Isomères] Si(C2H5O)4 |
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Masse molaire[2] | 208,3275 ± 0,0093 g/mol C 46,12 %, H 9,68 %, O 30,72 %, Si 13,48 %, |
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Propriétés physiques | |||
T° fusion | −77 °C[1] | ||
T° ébullition | 168 °C[1] | ||
Miscibilité | dans l'eau : hydrolyse lente[1] | ||
Masse volumique | 0,93 g·cm-3[1] | ||
Point d’éclair | 37 °C (coupelle fermée)[1] | ||
Limites d’explosivité dans l’air | 1,3–23 %vol[1] | ||
Pression de vapeur saturante | à 20 °C : 200 Pa[1] | ||
Précautions | |||
SGH[3] | |||
Attention |
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SIMDUT[4] | |||
B2, B6, D2B, |
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NFPA 704 | |||
Transport | |||
Écotoxicologie | |||
Seuil de l’odorat | bas : 3,6 ppm[5] | ||
Unités du SI et CNTP, sauf indication contraire. | |||
Le TEOS est généralement produit par alcoolyse du tétrachlorure de silicium SiCl4 dans de l'éthanol CH3CH2OH :
Il est utilisé pour la réticulation de silicones et possède certaines applications comme précurseur du dioxyde de silicium SiO2 dans l'industrie des semi-conducteurs[6] dans le cadre d'une réaction sol-gel. La propriété remarquable du TEOS est en effet de former du SiO2 par simple hydrolyse en libérant de l'éthanol CH3CH2OH :
Références
- SILICATE DE TETRAETHYLE, fiche(s) de sécurité du Programme International sur la Sécurité des Substances Chimiques, consultée(s) le 9 mai 2009
- Masse molaire calculée d’après « Atomic weights of the elements 2007 », sur www.chem.qmul.ac.uk.
- Numéro index règlement CE N° 1272/2008 (16 décembre 2008) dans le tableau 3.1 de l'annexe VI du
- « Silicate d'éthyle » dans la base de données de produits chimiques Reptox de la CSST (organisme québécois responsable de la sécurité et de la santé au travail), consulté le 25 avril 2009
- « Ethyl silicate », sur hazmap.nlm.nih.gov (consulté le )
- (en) D.A.P Bulla et N.I Morimoto, « Deposition of thick TEOS PECVD silicon oxide layers for integrated optical waveguide applications », Thin Solid Films, vol. 334, nos 1-2, , p. 60-64 (lire en ligne) DOI:10.1016/S0040-6090(98)01117-1
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