Borohydrure d'hafnium
Le borohydrure d'hafnium est un composé chimique de formule Hf(BH4)4. Il s'agit d'un complexe d'hafnium(IV) et d'ions tétrahydruroborate(III) BH4-. C'est le plus volatil des composés de l'hafnium[2], ce qui en fait un précurseur de choix pour la production de diborure d'hafnium HfB2 par dépôt chimique en phase vapeur (CVD)[3],[4],[5].
| Borohydrure d'hafnium | |
 Structure du borohydrure d'hafnium |
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| Identification | |
|---|---|
| No CAS | |
| PubChem | 135232588 |
| Propriétés chimiques | |
| Formule | H16B4Hf |
| Masse molaire[1] | 237,86 ± 0,05 g/mol H 6,78 %, B 18,18 %, Hf 75,04 %, |
| Unités du SI et CNTP, sauf indication contraire. | |
Notes et références
- Masse molaire calculée d’après « Atomic weights of the elements 2007 », sur www.chem.qmul.ac.uk.
- (en) H. R. Hoekstra, J. J. Katz, « The Preparation and Properties of the Group IV-B Metal Borohydrides », Journal of the American Chemical Society, vol. 71, no 7, , p. 2488-2492 (lire en ligne) DOI:10.1021/ja01175a073
- (en) S. T. Schwab, C. A. Stewart, K. W. Dudeck, S. M. Kozmina, J. D. Katz, B. Bartram, E. J. Wuchina, W. J. Kroenke et G. Courtin, « Polymeric precursors to refractory metal borides », Journal of Materials Science, vol. 39, no 19, , p. 6051-6055 (lire en ligne) DOI:10.1023/B:JMSC.0000041701.01103.41
- (en) Sreenivas Jayaraman, Yu Yang, Do Young Kim, Gregory S. Girolami et John R. Abelson, « Hafnium diboride thin films by chemical vapor deposition from a single source precursor », Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, vol. 23, no 6, , p. 1619-1625 DOI:10.1116/1.2049307
- (en) Yu Yang, Sreenivas Jayaraman, Do Young Kim, Gregory S. Girolami et John R. Abelson, « Crystalline texture in hafnium diboride thin films grown by chemical vapor deposition », Journal of Crystal Growth, vol. 294, no 2, , p. 389-395 (lire en ligne) DOI:10.1016/j.jcrysgro.2006.05.035
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